Huaweiの「Tauスケーリング則」は2031年に1.4nm相当の密度を目標、中国の現状は7nm
Huaweiは、トランジスタの微細化に頼らず、信号の伝達距離とデータ移動のオーバーヘッドを削減する設計原則「Tauスケーリング則」を発表した。2031年までに1.4ナノメートル相当の密度達成を目標としているが、このマイルストーンに対する第三者の検証は行われていない。2026年後半にスマートフォンのKirinチップ、2030年までにAIのAscendチップへ適用するというロードマップは、代替のスケーリング手法によってTSMCの最先端3nmプロセスから2〜3世代遅れている現状の格差を縮めようとする中国の賭けである。
出典： bnnbloomberg.ca ↗
Huaweiが提案しているのは、従来のノード駆動スケーリングからシステムレベルの効率スケーリングへのシフトだ。
He Hui、Omdia
なぜ重要か
- → Huaweiは2031年までに1.4nm相当のチップ密度を目指しており、米国による先端リソグラフィの輸出規制にもかかわらずTSMCとの2～3世代のギャップを縮小する可能性がある。
- → Tau Scaling Lawはトランジスタの縮小から信号伝播とデータ移動の削減にフォーカスをシフトさせ、最先端の製造装置がブロックされる場合の代替経路を提供する。
- → 成功すればNvidiaに代わる中国国内のAIチップ選択肢をもたらし、半導体競争における地政学的な影響力を再形成することになる。
中国のスケーリング回避策